대학소식

[보도자료]POSTECH 특허 영향력 아시아 "최고"

2010-03-291,693

– 美 <IEEE Spectrum>지 ‘특허 영향력’순위 발표…POSTECH 세계 19위
– 특허 독창성은 20위권내 최고 … 아시아 대학중 POSTECH 유일

  POSTECH(포항공과대학교)이 전 세계 대학을 대상으로 한 특허 영향력 평가에서 아시아 대학 중 유일하게 세계 20위권에 올라 학계의 주목을 끌고 있다.

 국제 전기전자공학회(IEEE)에서 발행하고 있는 ‘IEEE 스펙트럼(IEEE Spectrum)’지는 최근 2009년 한 해 동안 신청된 특허를 바탕으로 대학과 기업의 특허영향력을 조사, 발표했다.

 POSTECH은 대학과 교육기관을 대상으로 한 평가에서 영국 옥스퍼드대에 이어 종합 19위에 올랐다. 이번 결과로 POSTECH은 IEEE가 이 순위를 발표한 지난 2007년 이후 아시아권 대학으로서는 처음으로 20위권에 오른 대학이 됐다.

 특히 평가 세부항목 중 특허의 독창성(Pipeline Originality) 부문에서 POSTECH은 상위 20위권 대학 가운데 최고 점수(2.85)를 받으며 눈길을 모았다. 이와 함께 기관에서 낸 특허를 다시 인용하는 ‘기관 내 재인용(Self Citations)’ 항목에서도 가장 낮은 비율인 2.2%를 기록했다. 

 IEEE 측은 “이번 평가에서 영국의 옥스퍼드대와 한국의 POSTECH 등 2개의 비(非) 미국 대학이 순위에 새롭게 오른 것은 주목할 만하다”고 밝혔을 정도로 미국 대학이 강세를 보인 이 순위에서 POSTECH이 19위에 오른 것은 그만큼 연구 경쟁력을 세계적으로 인정받고 있다는 의미다.

 POSTECH 백성기 총장은 “특허의 독창성을 인정받았다는 것은 곧 해당 연구 분야를 선도하고 있다는 의미와도 같다”며 “이번 평가를 통해 POSTECH의 우수성을 인정받았지만, 앞으로 영향력 있는 연구성과 도출을 위해 더욱 노력하겠다”고 밝혔다.

 IEEE의 특허영향력 평가는 △특허 성장(Pipeline Growth) △영향력(Pipeline Impact) △보편성(Pipeline Generality) △독창성 △특허 건수를 종합적으로 평가하며, 인용지수에 대한 공정한 평가를 위해 특허 출원 기관이 같은 특허를 재인용하는 기관 내 재인용 지수를 기준으로 점수를 조정한다.

 한편, 이번 평가에서 대학은 텍사스주립대가 1위를 차지했으며, 캘리포니아주립대, 센트럴 플로리다대, 아이오와주립공과대, 워싱턴주립대 등 상위 20위권 대학 중 18개를 미국대학이 휩쓸었다.